应用设备制程：目前广泛使用于半导体CVD设备
仕样：
分解能0.036°
精度±0.1°
洁净度Class 1
对应规格6" ~ 8" Wafer
供给源AC100V 5A 真空400mmHg以上

维修交期 2~3周
保固6个月

维修流程