MAF-S

厂  牌 : TAZMO

边缘保持方式

采用不接触背面的方式,将晶圆的颗粒物污染控制在最小 支持直径200MM晶圆的机械钳方式校正机。

  • 只接触晶圆的边缘,实现了清洁定位的概念。
  • 自动识别晶圆的V型切口及定向平面,省略了上级控制器的设定。
  • 也可以支持化合物半导体及玻璃晶圆(请另行洽询)
  • 内置型控制器的紧密设计。
适用对象φ200mm
SEMI/JEIDA规格晶片
处理时间9秒以内(不换手时)
23秒以内(换手时)
处理精度θ:±0.2°以内(3σ)
处理范围±1mm以内
(晶片偏心量)
晶圆保持方式夹持边缘
晶片保持确认Photo micro sensor
通信规格RS-232C(串行通信)
适用电源电源:DC24V±10% 3A 1系统
重量本体:约8kg

永远超越客户的期待
ALWAYS GOES BEYOND CUSTOMERS' EXPECTATIONS

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