应用设备制程：目前广泛使用于半导体CVD、PVD、CD SEM、洗净机设备
仕样：
分解能0.125°
精度±0.25°
洁净度Class 1
对应规格4" ~ 8" Wafer  (2"~3"特别仕样对应)
供给源AC100V2A 真空400mmHg以上

维修交期 2~3周
保固6个月

维修流程