应用设备制程：目前广泛使用于半导体CVD设备

仕样：

分解能 0.036°

精度 ±0.1°

洁净度 Class 1

对应规格6" ~ 8" Wafer

供给源 AC100V 5A 真空400mmHg以上

维修交期 2~3周

保固6个月